一文为你解析高纯溅射靶材行业现状及未来发展趋势

一文为你解析高纯溅射靶材行业现状及未来发展趋势 2019-10-24 16:31:21   阅读: 3027

溅射靶是使用物理气相沉积技术制备电子薄膜材料的轰击材料。它们广泛应用于半导体芯片、太阳能电池、平板显示器、信息存储等领域。半导体芯片溅射靶技术要求最高,具有大规模生产能力的企业数量相对较少。它们主要分布在美国、日本等国家和地区。

中国溅射靶材行业起步较晚,仍是一个相对较新的行业。得益于国家战略的支持,少数企业(如江峰电子、研究新材料等。)专门研究和生产高纯度溅射靶的公司已经开始出现。高端应用领域已成功开发出多种溅射靶,为高纯度溅射靶的大规模产业化提供了良好的研发基础和市场条件。

国内外溅射靶的发展差距在哪里?哪些国内企业正在努力追赶?为了帮助您更好地了解高纯溅射靶行业的发展趋势,新材料在线编制了《2019年高纯溅射靶行业研究报告》,为您提供了方向性的思路和思路。

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来源:在线新材料

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